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ハイエンドVMP真空拡散溶接炉 - 先進的な材料接続のための中国サプライヤーおよび工場
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ハイエンドVMP真空拡散溶接炉 - 先進的な材料接続のための中国サプライヤーおよび工場

VMPシリーズ真空拡散溶接炉は、高度な真空制御システムと油圧制御システムを組み合わせた、ハイエンド熱処理技術における最高峰のソリューションです。中国の大手サプライヤーとして、当社工場は、高度な材料接合プロセス向けに特別に設計されたこの最先端装置を製造しています。航空宇宙、自動車製造、電子機器、原子力エネルギー、革新的な材料の開発など、重要な産業分野で幅広く活用されています。中核となる真空拡散溶接プロセスは、金属、セラミック、複合材料など、同一または異種の材料間で、液相形成を一切行わずに、堅牢で欠陥のない接合部を形成することを可能にします。この機能は、精密部品、多層構造、高融点材料の溶接に特に不可欠です。当社のVMPシリーズ炉は、ラジエーター、タービンブレード、電子パッケージ部品、原子炉要素などの高性能部品の製造に最適です。溶接ニーズに対し、卓越した品質と高度な技術を提供する当社の中国工場にお任せください。

    特性

    01

    真空度最大10-4 Paレベルにより、材料の酸化を効果的に防止し、溶接界面の純度を向上させます。

    最高使用温度は1600℃に達し、様々な材料の溶接に適しています。

    マルチゾーンインテリジェント温度制御システムにより、温度制御精度は±1℃まで向上し、炉内の温度均一性(±5℃以内)を確保し、厳しいプロセス要件を満たします。

    さまざまな材料のプロセス要件を満たすための、オプションの不活性ガス保護機能(アルゴン、窒素など)

    油圧式またはサーボ駆動式の圧力システムを搭載し、広い圧力範囲(0.5~2000T)に対応し、定圧、セグメント圧力などのモードをサポートすることで、溶接界面の密着性を確保します。

    プログラムコントローラまたはコンピュータインターフェース、タッチスクリーン、レコーダーなどを備えた統合PLCにより、炉の真空度、温度、圧力などのデータをリアルタイムで監視し、遠隔故障診断とプロセス追跡をサポートします。

    炉のサイズ、発熱体、圧子数と圧力、治具などは、お客様のニーズに合わせてカスタマイズ可能で、研究室での研究開発から量産まで、多様な用途に適しています。

    共通仕様

    02
    型番 VPM-80 VPM-480 VPM-2000
    有効作業領域​​の寸法: 幅×高さ×長さ(mm) 400×350×400 800×700×800 1000×1600×3200
    作動中の掃除機 10-1約10-6 mbar(オプション)
    温度 最高温度1600℃ / 通常動作温度600~1500℃
    ヘッドナンバー シングルヘッド、ロングヘッド(オプション)
    ヘッド圧力 0.5~2000トン(オプション)
    冷却圧力 0.87~1.99バール 腹筋 (任意)
    設置電力(kW) 180 450 680
    ※炉の有効作業領域​​サイズ、最高温度、作動真空度、圧子数、圧力などのパラメータを要件に応じてカスタマイズし、全次元的なプロセス適応ソリューションを提供します。

    よくある質問

    03
    VPMシリーズの最大真空度はどれくらいですか?

    このシステムは最大10の高真空度を実現します-4 Paレベルは、材料の酸化を効果的に防止し、溶接界面の純度を向上させます。

    これらの炉の最高使用温度は何度ですか?

    最高使用温度は1600℃に達するため、幅広い材料の拡散溶接に非常に適しています。

    温度制御システムの精度はどの程度ですか?

    本製品は、最大±1℃の温度制御精度を持つマルチゾーンインテリジェント温度制御システムを搭載しており、炉内の温度均一性を±5℃以内に維持します。

    どのような圧力範囲と制御モードがサポートされていますか?

    油圧式またはサーボ駆動式の圧力システムを搭載し、0.5トンから2000トンまでの幅広い圧力範囲に対応します。また、定圧、セグメント圧力、その他のカスタマイズモードにも対応しています。

    炉の寸法や構成部品はカスタマイズ可能ですか?

    はい。炉のサイズ、発熱体、圧子数、圧力、治具などは、お客様の具体的な要件に基づいて完全にカスタマイズ可能で、研究室での研究開発から量産まで、幅広い用途に対応します。

    この装置は不活性ガス防護に対応していますか?

    はい、オプションで不活性ガス(アルゴンや窒素など)による保護機能をご利用いただけます。これは、様々な材料の特定のプロセス要件に対応するためです。